Российская микроэлектроника вступает в новую фазу: первый отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм подготовлен к серийному производству.
В рамках российского форума «Микроэлектроника 2025» было заключено соглашение между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и компанией «Отраслевые решения» (часть группы компаний «Элемент») о поставке первого российского фотолитографа с разрешением 350 нм. Об этом проинформировала пресс-служба «Микрона», входящего в ту же группу «Элемент».
Этот фотолитограф ЗНТЦ предназначен для переноса изображения с фотошаблона на полупроводниковую пластину и его последующего многократного повторения, что необходимо при производстве сверхбольших интегральных схем с топологической нормой 350 нм. Контракт охватывает не только поставку, но и установку с последующей наладкой оборудования.
По словам генерального директора АО «ЗНТЦ» Анатолия Ковалева:
«Сегодня мы начинаем новый этап развития российской микроэлектроники. Разработка установки с разрешением 350 нм в ЗНТЦ завершена, её характеристики подтверждены в реальных производственных условиях, и мы переходим к серийному выпуску. Это только начало создания серии отечественных литографов. Мы имеем хороший фундамент для разработки полностью российских установок с нормами 90 нм.»
Этот фотолитограф является результатом реализации одной из первых госпрограмм, направленных на локализацию в России производства микросхем с топологическими нормами 350-130 нм. Он предназначен для обновления существующих и оснащения новых производств микроэлектроники. Разработка и производство осуществлялись совместно с белорусским ОАО «Планар».