Российская Федерация займется разработкой программного обеспечения

Министерство промышленности и торговли РФ объявило конкурс, целью которого является создание программного обеспечения, призванного лечь в основу отечественной системы автоматизированного проектирования (САПР). Эта система предназначена для создания фотошаблонов, необходимых в производстве микросхем. Речь идет о программном обеспечении, способном обрабатывать топологии от 90 нанометров и более, что соответствует проектам, основанным на уже освоенных технологических процессах.

На реализацию этого проекта выделено 943 миллиона рублей. Информация о тендере появилась 28 апреля 2026 года, а завершить разработку планируется к 1 ноября 2028 года. Создаваемое программное решение будет включать в себя ряд важных компонентов, таких как модули для загрузки данных, визуальной проверки топологий, генерации черновиков, комплектации фотошаблонов и другие инструменты, необходимые для подготовки необходимой производственной документации. Особое внимание уделяется совместимости с белорусскими лазерными установками для изготовления фотошаблонов.

Данный проект является естественным шагом в рамках стратегии импортозамещения в области проектирования микроэлектронной продукции. До 2022 года российские компании активно пользовались продукцией Cadence и Synopsys, однако введенные санкции привели к прекращению поставок этих решений. В ответ на это, Минпромторг еще в 2024 году утвердил план развития отечественных САПР до 2030 года, предусматривающий общие расходы на научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы в размере 54,6 миллиарда рублей.

Согласно этому плану, к 2030 году ожидается появление около ста различных платформ САПР российского производства, что должно привести к значительному росту рынка подобного программного обеспечения. Кроме того, в дорожной карте предусмотрена возможность начала разработки САПР для более продвинутых техпроцессов, таких как 28 нанометров, уже к 2030 году.