Новые микросхемы: ASML разрабатывает литографическую установку Hyper NA.

Нидерландская компания ASML в партнёрстве с немецким разработчиком оптики Carl Zeiss начала работу над созданием литографической установки следующего поколения, получившей название Hyper NA.

Процесс разработки этой передовой технологии может занять порядка десяти лет. На текущий момент проект находится на начальном этапе, и окончательное решение о запуске массового производства оборудования ещё не принято.

Предполагается, что система Hyper NA сможет создавать гораздо более миниатюрные элементы микросхем по сравнению с уже существующими установками с высокой числовой апертурой (High-NA EUV). Потенциально, эта система способна обрабатывать структуры размером около 5 нм, что увеличит разрешение более чем на треть по сравнению с возможностями современного оборудования.

Данная разработка имеет критическое значение для дальнейшего прогресса в области полупроводников. Производители стремятся к увеличению производительности чипов и снижению их энергопотребления, однако литография остаётся одним из ключевых технологических барьеров.

Carl Zeiss уже активно занимается созданием зеркал, соответствующих высоким требованиям Hyper NA по точности. В свою очередь, ASML планирует интегрировать в новую систему ряд уже существующих решений, включая источник света, чтобы избежать полного перепроектирования осветительной подсистемы.