Получено сверхчистое кварцевое стекло для микроэлектроники

Новосибирск, ученые Института тепло- и массообмена Национальной академии наук Белоруссии разработали установку для получения сверхчистого кварцевого стекла, которое перспективно для применения в фотолитографии — методе нанесения рисунка на стекло при производстве микроэлектроники. Об этом сообщил заведующий отделением физики и химии неравновесных сред Олег Пенязьков на Всероссийской конференции с международным участием «Горение топлива: теория, эксперимент, приложения».

Фотолитография — это способ получения рисунков на поверхности разных материалов. Этот метод широко применяется при производстве печатных плат в микроэлектронике. Для того, чтобы наносить рисунок на стекло, они должны обладать высокой степенью прозрачности. Для получения таких стекол ученые создали компактную установку с применением технологий газовой горелки.

«Таким образом, в настоящий момент мы фактически получаем надежные образцы высокогочистого аморфного кварцевого стекла весом до 2-3 кг», — сказал Пенязьков, добавив, что сейчас создан проект, позволяющий увеличить объемы производства стекла.

Для создания материала разработчики используют специальный прекурсор. Его молекула содержит четыре атома кремния, соединенных с кислородом, и углеводородные соединения. Процесс создания представляет собой послойное «выращивание», которое может продлится от нескольких суток до нескольких недель. Для установки была создана специальная горелка со 120 соплами.

Ученые рассчитывают через четыре года достичь объема производства стекла около 1,5 тонн в год с последующим тиражированием до 10-20 тонн.